黄仁勋自曝NVIDIA新一代GPU性能提升20%，游戏玩家必看

在GTC 2025会议上，英伟达首席执行官黄仁勋宣布，新一代GPU将得益于环绕栅极（GAA）晶体管技术的应用，其性能预计将提升约20%。这一信息迅速吸引了业界的广泛关注。GAA制程技术对英伟达未来发展的具体影响，成为了一个值得深入探讨的研究课题。

性能提升预期

黄仁勋在接受采访时指出，新一代GPU将采用环绕栅极（GAA）晶体管技术。据预测，其性能将提升20%。这一提升预示着制程技术的进步将推动GPU性能迈向新高峰。然而，与以往相比，这种提升可能更为温和。这表明，在摩尔定律放缓的大环境下，制程技术的改进步伐正在逐步调整。

历史数据对比表明，历次关键技术革新均显著提升了性能指标。然而，此次仅实现了20%的增幅，这标志着技术进步的新阶段。为了实现GPU性能的显著提升，未来或许需要开辟全新的技术路线。

推出时间推测

黄仁勋所提到的下一代GPU，若无意外情况发生，预计将于2028年正式发布。这一发布时间表为市场提供了明确的预判。科研机构与开发者可以依据此时间表进行预先规划，并着手开展针对新GPU的相关研究与开发工作。

产品研发到大规模生产的过程较为耗时，因此，英伟达计划在未来数年集中资源攻克GAA制程技术在GPU领域的挑战。在此阶段，业界将紧密跟踪英伟达的研发动态，并判断该技术能否如期实现产品化。

制程重要性淡化

黄仁勋在问答环节中似乎对制程节点变化的重要性有所减弱。他认为，摩尔定律的放缓意味着制程技术的密度、功率和能效提升的空间有限，预计提升幅度大约为20%。这一观点与传统的认知相悖，即制程节点越小，性能越好。

在他看来，制程技术的进步已不再是引领变革的核心动力。AI系统的广泛运用及其不断的发展，正促使行业对GPU的发展方向进行重新评估。这种发展趋势不能单纯依靠制程技术的提高。

AI时代新考量

黄仁勋指出，人工智能系统的不断进步使得提升管理众多GPU的效率变得尤为关键。在AI数据处理环节，多GPU的协同作用至关重要。若GPU管理效率不高，即便单个GPU性能卓越，整体运算效率仍将遭受负面影响。

众多大型人工智能项目广泛运用多个GPU进行并行处理。GPU集群的管理与协同作业模式的优化变得尤为迫切。对英伟达公司而言，这一挑战至关重要，其结果将直接影响公司在竞争激烈的AI市场的地位。

制程技术选择惯例

英伟达通常不会第一时间采用台积电的最前沿工艺，而是倾向于采用较为成熟的次新一代技术。目前，他们正利用台积电的4纳米工艺来制造面向消费市场及数据中心的GPU产品。台积电的4纳米工艺是在5纳米工艺基础上的优化和升级，旨在保证技术的稳定性和成熟度。

该机制有助于在风险与收益之间取得平衡，进而确保产品在市场上的稳定运作与可靠性。这一措施明显减少了消费者及企业用户在使用过程中的风险，同时保证了他们能够持续享受到稳定的产品服务。

下一代制程展望

英伟达即将推出一款名为RuBin的GPU新架构，该架构将运用台积电的3nm制程技术，但具体是N3P还是定制版本，目前尚无确切消息。预计采用GAA制程技术的产品将在2028年的架构中首次亮相。至于黄仁勋尚未对外透露将选用哪家公司的GAA制程技术。

台积电的N2制程技术、三星的类似技术，以及英特尔的18A技术，在理论分析中均展现出显著的竞争力。这一发展态势表明，GPU制程领域的竞争将愈发激烈。众多厂商有望竞相争取与英伟达等知名大客户的合作机会。

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