东方晶源推出PME良率优化系统，助力半导体智能制造数据引擎升级

近期，东方晶源推出的智能良率优化系统PME已成功在客户场所实施部署，并已步入产品的验证及评价流程。该系统配备了高性能的引擎，并拥有众多创新特性，预计将对芯片生产良率的提高产生深远影响。

系统部署开启验证

东方晶源的PME系统近期已在客户现场成功实施。这一成果标志着系统正式进入产品验证和评估阶段。作为连接芯片设计数据与制造缺陷数据的核心工具，该系统肩负着提高芯片制造良率的关键任务。未来其在实际应用中的表现，备受关注。

强大引擎助力分析

PME产品拥有强大的基础匹配和驱动引擎。这一配置使得系统在版图分析和处理方面表现出色。其功能类似于芯片制造中的智能核心，能够精确且快速地处理各类版图数据。这为后续的检测和优化工作奠定了稳固的基础，显著提升了工作效率。

检测区域选择优化

传统检测流程主要依靠经验参数，而PME技术能够根据设计版图信息来设定晶圆检测程序。该技术将设计版图信息转化为类似“数字导航地图”的形式，使用户能够进行指定、挑选和优化检测程序。因此，检测区域的配置效率得到了显著增强，同时检测的效率和精确度也实现了明显提升，为芯片制造质量提供了有力保障。

智能采样分类缺陷

在芯片制造缺陷检测过程中，关键缺陷的比例较小，且定位困难，这增加了复检的成本。过去，取样主要依赖操作人员的经验以及机器的算法，缺乏统一性。然而，通过引入PME技术并整合设计版图信息，相关算法能够实现规范的取样，并引入新的规则。此外，PME技术还能应用于缺陷分类，为决策提供多维度的支持，对工艺的优化起到显著作用。

PWQ分析创新突破

在当前的芯片生产流程中，对PWQ晶圆的检测结果分析主要依赖人工操作，这一过程不仅效率低下，而且高度依赖操作者的经验。东方晶源公司推出的PME PWQ分析模块，运用了D2DB技术，能够精确地定位缺陷并实现自动检测。这一模块的应用，使得分析结果能够及时且迅速地反馈，有效推动了关键环节的迭代与优化，从而帮助企业更快地提高产品良率。

构建一体化解决方案

PME计划与东方晶源在电子束检测、量测设备以及计算光刻工具方面实现深度整合。此举旨在打造HPO一体化良率解决方案。这一方案将向国内晶圆厂提供更全面、高效的技术支持。它能帮助解决先进工艺节点带来的良率挑战。同时，这也将助力国内集成电路产业链在全球竞争中取得优势地位。

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